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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
管(Φ6mm)7、靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)可选配件金、铟、银、白金等各种靶材 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zei新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
SCCM VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
SCCM VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
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三靶射频磁控溅射镀膜仪
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电
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5靶头等离子射频磁控溅射仪
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VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪
OD x 150mm ID x 290mm H(2).密封:采用O形密封圈密封6、溅射头&样品台(1).二英寸带水冷的磁控溅射头(注意:水冷机不是标配)另有1英寸靶头可选(2).一个直径50mm
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300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
0.5mm-3mm;可溅射Au、Ag、Pt、Cr、Ni,不可溅射氧化物、半导体、一些轻 金属、Al、Zn、C等 VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型
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